頂點光電子商城2024年6月6日消息：近日，全球領(lǐng)先的半導體制造設(shè)備供應商荷蘭ASML公司，宣布與比利時芯片研究巨頭Imec共同開設(shè)了一個測試實驗室，專注于其最新的High NA EUV光刻設(shè)備。
實驗室斥資3.5億歐元，經(jīng)過多年建設(shè)完成。核心設(shè)備包括最先進的光刻機TWINSCAN EXE:5000，這是一款專為High NA EUV設(shè)計的曝光設(shè)備。實驗室還配備了一系列配套的處理和計量工具，以支持完整的芯片制造流程。
新High NA EUV設(shè)備可將分辨率提高60%，有望帶來更小、更快的新一代芯片。ASML預計客戶將在2025至2026年開始使用這款設(shè)備進行商業(yè)制造。
目前，ASML已經(jīng)接到了十幾個High NA EUV設(shè)備的訂單，顯示了市場對這一頂尖技術(shù)的強勁需求。
ASML是曝光設(shè)備市場的領(lǐng)導者，目前只有臺積電、三星、英特爾及SK海力士能使用其當前一代的EUV設(shè)備進行生產(chǎn)。英特爾官方表示，很高興看到這一愿景得以實現(xiàn)，并共同加速下一代芯片的誕生。英特爾計劃在其14A制程工藝中使用High NA EUV設(shè)備。
該實驗室的啟用被視為大批量生產(chǎn)High NA EUV設(shè)備的一個里程碑，預計將在2025至2026年間實現(xiàn)廣泛應用。分析人士認為，High NA EUV技術(shù)的成熟和普及將對半導體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生深遠影響，包括提高生產(chǎn)效率和降低制造成本，進一步推動半導體產(chǎn)業(yè)的競爭和創(chuàng)新。
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